上海GMP純化水設(shè)備解讀：反滲透設(shè)備正確的操作使用及保養(yǎng)
【上海水處理設(shè)備網(wǎng)shwebi.cn】反滲透設(shè)備應(yīng)該如何延長設(shè)備使用壽命？
反滲透設(shè)備預(yù)處理調(diào)試
預(yù)處理質(zhì)量的好壞是關(guān)系反滲透設(shè)備能夠穩(wěn)定運行的關(guān)鍵。當反滲透設(shè)備進水采用地下水時，采用石英砂和活性炭的預(yù)處理是沒有問題的使用地表水時就不同了
1反滲透設(shè)備預(yù)處理藥劑
與處置中使用的藥劑，包括混凝劑、助凝劑、氧化劑、還原劑、阻垢劑等，尤其是混凝劑和阻垢劑，這些藥劑的選擇、加藥量甚至藥品配方法都會對反滲透的運行有很大的影響。
通常，會注意檢測進水的鐵含量，其實進水中的鋁含量高也會造成反滲透膜的污染。鋁對膜的污染是由于氫氧化鋁沉淀而導致的氫氧化鋁沉淀物通常以膠體形式存在一種兩性氫氧化物，6.5-6.7pH范圍內(nèi)具有很小的溶解度，如果鋁凝聚過程在太高或太低的pH值下進行，鋁離子將進入反滲透裝置中造成反滲透膜的污染，因此對于采用鋁鹽為凝聚劑的預(yù)處理系統(tǒng)，其pH值最好控制在6.5-6.7使鋁的溶解度達到最小，注意根據(jù)水質(zhì)及時調(diào)整加藥量，可能的話要定期檢測經(jīng)預(yù)處理過的水中的鋁含量，并控制在0.05mg/L以下。
為了防止?jié)馑畟?cè)的結(jié)垢，通常會加入阻垢劑，上海GMP純化水設(shè)備目前的阻垢劑對一些有機酸、有機磷酸鹽類物質(zhì)復(fù)配而成，達到阻垢、分散的目的如果選擇或控制不當，這些有機物會污堵反滲透膜元件，同時它也會成為滋生細菌微生物的溫床，并對反滲透的運行帶來更大的危害。
2溫度
可能大家都知道溫度對反滲透膜元件的通量有很大的影響，因此在計算產(chǎn)水量的時候?qū)囟冗M行校核才干相互比擬。所以在冬季水溫低的地方反滲透的預(yù)處置系統(tǒng)中會設(shè)計加熱設(shè)備，這樣可以有效保證冬季反滲透設(shè)備也能達到設(shè)計出力。
其實膜元件中SiO?沉淀，也同反滲透裝置的進水溫度有密切的關(guān)系，濃水中的二氧化硅濃度，25℃時不能超過100mg/l5℃時不能超過25mg/l因此，當預(yù)處置系統(tǒng)中無加熱設(shè)備時，冬季要十分注意二氧化硅沉淀物對膜元件的污染問題，嚴格控制濃水中的二氧化硅的含量，其值不能超過在該溫度下的溶解度。
反滲透設(shè)備運行人員的培訓
運行人員的既能水平的高低、取決于運行人員能否及時發(fā)現(xiàn)并正確處置系統(tǒng)的缺陷和隱患是影響反滲透設(shè)備運行的重要因素。運行人員的誤操作對系統(tǒng)的危害更大，而且對這種膜元件的損壞經(jīng)常是無法恢復(fù)的反滲透設(shè)備重啟前和運行后的沖洗工作一定要做好，防止設(shè)備中有殘余氣體在高壓下運行，形成氣錘會損壞膜，以及膜濃水側(cè)的無機鹽的濃度高于原水，易結(jié)垢而污染膜上海GMP純化水設(shè)備。
反滲透設(shè)備的運行管理
1反滲透設(shè)備定期檢查
定期檢查、及時更換保安過濾器濾芯，防止濾芯因裝置或質(zhì)量問題發(fā)生泄漏所引起的反滲透膜的顆粒污染。當保安過濾器進口壓差大于0.15MPa時，應(yīng)更換濾芯。一般應(yīng)每月檢查一次，濾芯使用時間不宜超越6個月，運行時還應(yīng)經(jīng)常檢查保安過濾器內(nèi)是夠有氣體，不能讓空氣帶入。
2反滲透膜元件的檢查
1一般每隔半年（必要時可縮短時間）要對每套反滲透的一段、二段膜元件進行檢查。
2代開壓力容器端蓋（使用專用工具，并由技術(shù)熟練的技工操作）
3檢查進水段有無機械雜質(zhì)、金屬氧化物沉積，有無細菌微生物滋生，膜元件顏色有無變化，檢查膜有無結(jié)垢。
4如果需要還可以抽出反滲透膜元件進行細致檢查，再抽進水端膜元件時，一定不能直接抽，要把按水流方向它從壓力容器推出，裝置時同樣。
5每次檢查完要做詳細記錄，以便進行對比。
3各表計定期校驗，保證儀表準確可靠。
4定期對反滲透設(shè)備運行數(shù)據(jù)分析統(tǒng)計。
操作壓力、回收率（或濃水排放量）進水的SDI污染指數(shù)）pH余氯和溫度是反滲透裝置的主要運行控制參數(shù)；脫鹽率、產(chǎn)水量和壓差是三個主要監(jiān)視性能參數(shù)。運行管理中必需嚴格遵守，決不能隨意改變操作條件。特別是要防止提高回收率來增加產(chǎn)水量，導致反滲透膜面產(chǎn)生結(jié)垢；要防止在SDI值超標的情況下繼續(xù)運行，導致反滲透膜的堵塞；要防止在允許最大壓差以上繼續(xù)工作而造成膜元件的破壞性損壞。
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